电流密度对熔融盐电沉积金属钨镀层性能的影响

    采用二元熔盐氧化物Na2WO4 和WO3，以脉冲电沉积的方法在占空比0.5、脉冲频率1 000 Hz、电沉积温度850 °C 的条件下，于热沉材料CuCrZr 之上获得了金属钨镀层。讨论了电流密度对钨镀层微观结构、显微硬度、结合强度等性能的影响。当电流密度为20 ~ 30 mA/cm2 时，能够获得表面致密均匀的钨镀层。随着电流密度的增大，电流效率呈现先增大后下降的趋势，当电流密度为30 mA/cm2 时，电流效率达到最大值92.64%。