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191307-基体负偏压及占空比对电弧离子镀CrN 薄膜 表面大颗粒和厚度的影响

日期:2019-07-25     浏览:113    下载:0     体积:2.31M     评论:0    


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 摘要:采用电弧离子镀技术在Si 基体上沉积了CrN 薄膜。利用扫描电镜观察薄膜的表面和截面形貌,通过Image-Pro Plus 图像处理软件统计扫描电镜图像中大颗粒所占比例及密度。研究了基体负偏压和脉冲占空比对CrN 薄膜表面大颗粒和厚度的影响。结果表明,基体负偏压从零升高至500 V 时,薄膜表面大颗粒的占比和密度均不断下降,沉积速率降低;脉冲占空比从15%升高至75%时,薄膜表面大颗粒的占比先增加,而后在一定范围内波动,大颗粒密度则先增加后下降。脉冲占空比为15%时,大颗粒占比和密度均较低;脉冲占空比为75%时,大颗粒在薄膜表面的占比最高,但密度最低,表明此时大颗粒的尺寸较大。
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