201912-镀铜银纳米线导电薄膜铜层蚀刻液研究

摘要：介绍了一种新型镀铜银纳米线导电薄膜制备技术：以磁控溅射法在涂布了OC(保护胶)的银纳米线(AgNWs)薄膜表面覆盖纳米铜层来替代银浆，再通过黄光制程中的蚀刻工艺将铜层进行图案化蚀刻。研究了蚀刻液中过硫酸钠和磷酸用量对铜层蚀刻效果的影响，得到较佳的铜蚀刻液为：磷酸117.7 g/L，过硫酸钠35.3 g/L。采用该蚀刻液能够将镀铜银纳米线薄膜上的Cu 层完全蚀刻掉，并且不损坏OC 层和AgNWs 层，蚀刻时间易控，效果好。