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211708-电压对 Zr-4 合金 Na2SiO3−(NaPO3)6−K2ZrF6体系微弧氧化膜性能的影响

2021-09-23 300 4.59M 0

作者:呼丹,陶路路,高广睿,翁特,郑勇


单位:西安赛福斯材料防护有限责任公司;西北有色金属研究院;中国核动力研究设计院


摘要:在 Na2SiO3−(NaPO3)6−K2ZrF6体系中采用微弧氧化法以 Zr-4 合金为基材制备出陶瓷膜层。利用扫描电镜、粗糙度仪、X 射线 衍射仪、X 射线光电子能谱仪和电化学工作站研究了电压对膜层结构与性能的影响。结果表明,膜层表面呈典型“火山口”形貌, 电压升高后膜层粗糙度与致密层厚度增加。膜层主要由单斜氧化锆相(m-ZrO2)和四方氧化锆相(t-ZrO2)组成,Si、P 等元素分别 以非晶态氧化物的形式存在。经微弧氧化处理后,Zr-4 合金的腐蚀电流密度下降,电阻增加,耐蚀性明显提高。480 V 下制备的 膜层的耐蚀性最优。













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