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211906-磁控溅射 AlCrFeNiTi 高熵合金薄膜的组织和表面形貌

2021-10-26 410 2.96M 0

作者:张微,刘亮,商剑,赵作福,张越,齐锦刚,王冰


单位:辽宁工业大学材料科学与工程学院


摘要:用直流磁控溅射法在单晶硅片上制备了 AlCrFeNiTi 高熵合金薄膜,采用 X 射线衍射仪、扫描电镜和原子力显微镜考察了溅射参数对薄膜结构及表面形貌的影响。结果表明,当溅射功率一定,随着衬底温度升高,AlCrFeNiTi 高熵合金薄膜由非晶向 2 个 BCC 相转变,衍射峰强度也随之增大,同时薄膜的结晶度提高,晶粒尺寸增大,导致薄膜粗糙度增加。当衬底温度一定时,随着溅射功率增大,X 射线衍射峰强度大幅度上升,薄膜表面晶粒迅速长大,但因为溅射功率过大会导致表面形成缺陷,所以表面粗糙度先减小后增大。













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