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220706-硅衬底化学机械抛光液的循环使用性能

2022-05-13 390 2.69M

作者:陶琴,王振扬,王同庆

单位:清华大学摩擦学国家重点实验室,北京 100084

摘要:采用8%(质量分数,下同)有机碱A 和3%有机碱B 作为抛光液的复配pH 调节剂对硅衬底进行化学机械抛光。研究了2 种有机碱单独使用或复配使用时对抛光速率和抛光表面质量的影响。结果表明,当2 种有机碱复配时,硅衬底的平均抛光速率达到1.04 μm/min,同时可获得低表面粗糙度(Ra = 0.621 nm)和无划痕的抛光表面。该抛光液在循环使用过程中表现出良好的稳定性,循环使用10 次后抛光表面质量基本无变化,但抛光速率略降,主要与抛光液pH 降低、黏度增大以及硅溶胶颗粒团聚有关。













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