作者：陶琴，王振扬，王同庆
单位：清华大学摩擦学国家重点实验室，北京 100084
摘要：采用8%(质量分数，下同)有机碱A 和3%有机碱B 作为抛光液的复配pH 调节剂对硅衬底进行化学机械抛光。研究了2 种有机碱单独使用或复配使用时对抛光速率和抛光表面质量的影响。结果表明，当2 种有机碱复配时，硅衬底的平均抛光速率达到1.04 μm/min，同时可获得低表面粗糙度(Ra = 0.621 nm)和无划痕的抛光表面。该抛光液在循环使用过程中表现出良好的稳定性，循环使用10 次后抛光表面质量基本无变化，但抛光速率略降，主要与抛光液pH 降低、黏度增大以及硅溶胶颗粒团聚有关。
