制备高铼含量铼合金膜层的电镀方法

公开日       20080506

发明人  成田敏夫, 林重成, 吉岡隆幸, 八鍬浩, 相馬道明,福本倫久

申请人  科学技術振興事業団, 株式会社荏原製作所, 札幌エレクトロプレイティング工業株式会社

公开了一种制备高铼含量合金(如铼原子分数大于等于98%的铼基膜，或铼原子分数为65% ~ 98%并至少含有镍、铁和钴中其中一种元素的合金膜)的方法。该方法包括一种电镀工艺，镀液中含有高铼酸盐离子，镍、铁、钴、铬中至少一种离子，以及锂和钠中至少一种离子。本发明所制备的高铼含量合金膜可用作高温元件的抗蚀合金层或类似场合。即使元件形状复杂，该方法也能通过简单、低成本的电镀工艺，赋予其耐热、耐蚀性能。

高耐蚀性锌合金电镀及其镀覆的金属材料

公开日       20080207

发明人  KUBOTA K, HARUTA Y, HIRAKI T

受让人  Kansai Paint Co., Ltd.

本发明旨在提供一种具有高耐蚀性的锌基合金镀膜，其性能可与锌–铬合金相媲美，但不含环境负荷重的铬，并描述了镀覆该膜层的材料。该锌基合金镀膜含有30% ~ 96%(质量分数，下同)的锌、2% ~ 20%的铁族金属和2% ~ 50%的钨。

用于高强钢的低氢脆锌/镍电镀

公开日       20080605

发明人  TRAN L M, SCHRIEVER M P, JONES J H

地址  Harness Dickey & Pierce, PLC, P.O. Box 828, Bloomfield Hills, MI 48303, U.S.

本发明涉及一种制备耐蚀工件的方法。上述工件具有导电性，并在电镀过程中吸氢。该方法采用含锌、镍的碱性水溶液，在工件表面电镀锌/镍镀层。所用电解液以可溶性氢氧化物配制，其中锌和镍的质量比要求能够使所制备的镀层中含有85% ~ 95%(质量分数，下同)的锌和5% ~ 15%的镍。该镀液完全不含光亮剂，因为光亮剂对去氢有阻碍作用。

含钯镀液及其用途

公开日       20081016

发明人  CHEN S-C, KAO Y-L, REI M-H, TSAI L-T

受让人  Green Hydrotec Inc.

提供了一种含钯电镀液以及在多孔金属载体上制备钯或钯合金薄膜的方法。采用该方法在多孔金属上制备钯或钯合金薄膜具有省时、制程简单的特点。另外，所制备的钯或钯合金薄膜非常致密，具有优异的耐氢脆性能，适用性广。该镀液中含有钯盐、反应型导电盐、配位剂和缓冲剂。

沉积硬铬的方法、镀液以及镀有硬铬的表面

公开日       20080207

发明人  BOHNET J, METZNER M, KRASSNITZER H, SCHERMANZ K

申请人  Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der Angewandten Forschung e.V.

提供了一种铬层沉积的方法，可用于镀覆耐磨耐蚀性硬铬或装饰性镀铬。工件作为阴极，浸没在含有至少一种三价铬盐和至少一种三价铬离子稳定剂的阴极电解液中。阳极电解液中含有一种布朗斯特酸。阴、阳极电解液以阴离子选择性膜(也称作阴离子交换膜)隔开。至少采用一种设备来连续监测pH偏离预定值的程度。预定的pH取决于所用的三价铬盐，以实现铬的最佳沉积。采用一种能根据预定值来调整pH的控制装置，以实现酸或碱的自动添加。

镀覆方法、导电膜及透光电磁波屏蔽膜

公开日       20080424

发明人  MATSUMOTO J

地址  Buchanan, Ingersoll & Rooney PC, Post Office Box 1404, Alexandria, VA 22313-1404, U.S.

一种镀覆方法，可连续电镀表面电阻为1 ~ 1 000 Ω/sq的膜层，镀液中的铜以五水合硫酸铜的形式添加，其质量浓度为150 ~ 300 g/L。

用于镁合金表面电镀铜之前的无氰预处理溶液及预处理方法

公开日       20080703

发明人  HUANG C-A, WANG T-H, CHEN K-L

受让人  Chang Guang University

一种用于镁合金电镀的预处理液，其中含有铜离子、配位剂和添加剂。配位剂在以下物质中选择：酒石酸钾钠，酒石酸钾，酒石酸钠，酒石酸，以及从酒石酸衍生而来的可溶性盐。添加剂从以下物质中选择：磷酸钠，次磷酸钠，磷酸，以及从磷酸或次磷酸衍生而来的可溶性盐。镁合金浸泡在预处理液中，并电镀上铜层。随后，镁合金浸入硫酸铜溶液中进行加厚镀铜，从而镀覆上抗蚀金属层。处理后的镁合金具有优异的耐蚀、耐磨性能，表面有光泽。该预处理液不含氰化物，因此毒性低，对电镀操作人员安全，排放后对环境影响不大。