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面向未来的表面精饰新技术──超临界流体技术

   日期:2017-02-13     来源:电镀与涂饰    作者:方景礼    浏览:4485    评论:0    
核心提示:中文核心期刊,中国科技核心期刊! DOI:10.19289/j.1004-227x.2017.01.001摘要:评述了超临界流体技术的原理、特点以及在表面精
 
中文核心期刊,中国科技核心期刊!

DOI: 10.19289/j.1004-227x.2017.01.001

摘要:评述了超临界流体技术的原理、特点以及在表面精饰领域的应用和进展,重点介绍了超临界CO2 清洗硅晶圆,超临界萃取提纯电镀和化工中间体,超临界流体制备纳米微粒,超临界流体电沉积和化学沉积,超临界水氧化技术在处理各种难降解有机废水、工业污泥、废旧印刷电路板等方面的应用,以及超临界流体处理设备上的进展。事实说明,超临界流体技术在表面精饰行业有广阔的应用前景,是古老的表面精饰行业向技术更先进,工艺更环保,镀层质量更优异方向迈进的新途径。

作者简介:方景礼(1940–),男,1962 年南京大学化学系无机化学专业毕业,1965 年同校研究生毕业,师从中国化学会创始人、中国科学院院士戴安邦教授。1965−1995 在南京大学化学系任教,1995−2002 在新加坡高科技公司任首席工程师及新加坡柏士胜公司任首席技术执行官,2002−2004 年任台湾上村公司高级技术顾问,2005−2007 年任香港集华国际公司技术总监,2008 年后任广东及深圳市清洁生产专家组成员,福建省表面工程协会首席专家,新加坡爱普生(EPSON)公司高级技术顾问等。2016 年9 月在第19 届世界表面精饰会上获“终身成就奖”。

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本文发表于《电镀与涂饰》期刊2017年第1期。未经许可,不得转载。

 
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